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Damascene Metal Gate Technology: A Novel Approach towards Nano CMOS Devices with Crystalline High-K Gate Dielectrics

Endres, Ralf ; Schwalke, Udo :
Damascene Metal Gate Technology: A Novel Approach towards Nano CMOS Devices with Crystalline High-K Gate Dielectrics.
In: Nanotech Northern Europe (NTNE), 27.-29.03.2007, Helsinki, Finnland.
[Konferenz- oder Workshop-Beitrag], (2007)

Typ des Eintrags: Konferenz- oder Workshop-Beitrag (Keine Angabe)
Erschienen: 2007
Autor(en): Endres, Ralf ; Schwalke, Udo
Titel: Damascene Metal Gate Technology: A Novel Approach towards Nano CMOS Devices with Crystalline High-K Gate Dielectrics
Sprache: Englisch
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Veranstaltungstitel: Nanotech Northern Europe (NTNE)
Veranstaltungsort: Helsinki, Finnland
Veranstaltungsdatum: 27.-29.03.2007
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:28
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