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Damascene Metal Gate Technology: A Novel Approach towards Nano CMOS Devices with Crystalline High-K Gate Dielectrics

Endres, Ralf ; Schwalke, Udo (2007)
Damascene Metal Gate Technology: A Novel Approach towards Nano CMOS Devices with Crystalline High-K Gate Dielectrics.
Nanotech Northern Europe (NTNE). Helsinki, Finnland (27.-29.03.2007)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie

Typ des Eintrags: Konferenzveröffentlichung
Erschienen: 2007
Autor(en): Endres, Ralf ; Schwalke, Udo
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Damascene Metal Gate Technology: A Novel Approach towards Nano CMOS Devices with Crystalline High-K Gate Dielectrics
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 29 März 2007
Veranstaltungstitel: Nanotech Northern Europe (NTNE)
Veranstaltungsort: Helsinki, Finnland
Veranstaltungsdatum: 27.-29.03.2007
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:28
Letzte Änderung: 05 Mär 2013 09:15
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