Rispal, Lorraine ; Hang, H. ; Heller, Rudolf ; Hess, Gisela ; Tzschöckel, Gerhard ; Schwalke, Udo
:
Self-Aligned Fabrication Process Based on Sacrificial Catalyst for Pd-Contacted Carbon Nanotube Field-Effect Transistors.
[Online-Edition: http://dx.doi.org/10.1149/1.2783302]
In:
ECS Transactions, 11
(8)
pp. 53-61.
[Artikel], (2007)
Offizielle URL: http://dx.doi.org/10.1149/1.2783302
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2007 |
| Autor(en): | Rispal, Lorraine ; Hang, H. ; Heller, Rudolf ; Hess, Gisela ; Tzschöckel, Gerhard ; Schwalke, Udo |
| Titel: | Self-Aligned Fabrication Process Based on Sacrificial Catalyst for Pd-Contacted Carbon Nanotube Field-Effect Transistors |
| Sprache: | Englisch |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | ECS Transactions |
| Band: | 11 |
| (Heft-)Nummer: | 8 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Veranstaltungstitel: | 212th Meeting of The Electrochemical Society (ECS) |
| Veranstaltungsort: | Washington DC, USA |
| Veranstaltungsdatum: | 07.-12.10.2007 |
| Hinterlegungsdatum: | 20 Nov 2008 08:28 |
| Offizielle URL: | http://dx.doi.org/10.1149/1.2783302 |
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