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Self-Aligned Fabrication Process Based on Sacrificial Catalyst for Pd-Contacted Carbon Nanotube Field-Effect Transistors

Rispal, Lorraine ; Hang, H. ; Heller, Rudolf ; Hess, Gisela ; Tzschöckel, Gerhard ; Schwalke, Udo :
Self-Aligned Fabrication Process Based on Sacrificial Catalyst for Pd-Contacted Carbon Nanotube Field-Effect Transistors.
[Online-Edition: http://dx.doi.org/10.1149/1.2783302]
In: ECS Transactions, 11 (8) pp. 53-61.
[Artikel], (2007)

Offizielle URL: http://dx.doi.org/10.1149/1.2783302
Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2007
Autor(en): Rispal, Lorraine ; Hang, H. ; Heller, Rudolf ; Hess, Gisela ; Tzschöckel, Gerhard ; Schwalke, Udo
Titel: Self-Aligned Fabrication Process Based on Sacrificial Catalyst for Pd-Contacted Carbon Nanotube Field-Effect Transistors
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: ECS Transactions
Band: 11
(Heft-)Nummer: 8
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Veranstaltungstitel: 212th Meeting of The Electrochemical Society (ECS)
Veranstaltungsort: Washington DC, USA
Veranstaltungsdatum: 07.-12.10.2007
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:28
Offizielle URL: http://dx.doi.org/10.1149/1.2783302
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