Wessely, Frank ; Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo
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Mix-and-Match Lithography Based Ultrathin-body SOI Nanowires and Schottky-S/D-FETs.
[Online-Edition: http://www.stw.nl/NR/rdonlyres/ADD2FB2C-3AD4-4D1E-BA0A-1EAEA...]
In:
Proceedings of Semiconductor Advances for Future Electronics (SAFE)
pp. 478-481.
[Artikel], (2007)
Offizielle URL: http://www.stw.nl/NR/rdonlyres/ADD2FB2C-3AD4-4D1E-BA0A-1EAEA...
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2007 |
| Autor(en): | Wessely, Frank ; Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo |
| Titel: | Mix-and-Match Lithography Based Ultrathin-body SOI Nanowires and Schottky-S/D-FETs |
| Sprache: | Englisch |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Proceedings of Semiconductor Advances for Future Electronics (SAFE) |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Veranstaltungstitel: | 10th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics and Sensors (SAFE) |
| Veranstaltungsort: | Veldhoven, Niederlande |
| Veranstaltungsdatum: | 29.-30.09.2007 |
| Hinterlegungsdatum: | 20 Nov 2008 08:28 |
| Offizielle URL: | http://www.stw.nl/NR/rdonlyres/ADD2FB2C-3AD4-4D1E-BA0A-1EAEA... |
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