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Mix-and-Match Lithography Based Ultrathin-body SOI Nanowires and Schottky-S/D-FETs

Wessely, Frank ; Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo :
Mix-and-Match Lithography Based Ultrathin-body SOI Nanowires and Schottky-S/D-FETs.
[Online-Edition: http://www.stw.nl/NR/rdonlyres/ADD2FB2C-3AD4-4D1E-BA0A-1EAEA...]
In: Proceedings of Semiconductor Advances for Future Electronics (SAFE) pp. 478-481.
[Artikel], (2007)

Offizielle URL: http://www.stw.nl/NR/rdonlyres/ADD2FB2C-3AD4-4D1E-BA0A-1EAEA...
Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2007
Autor(en): Wessely, Frank ; Rispal, Lorraine ; Schwalke, Udo
Titel: Mix-and-Match Lithography Based Ultrathin-body SOI Nanowires and Schottky-S/D-FETs
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Proceedings of Semiconductor Advances for Future Electronics (SAFE)
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik
Veranstaltungstitel: 10th Annual Workshop on Semiconductor Advances for Future Electronics and Sensors (SAFE)
Veranstaltungsort: Veldhoven, Niederlande
Veranstaltungsdatum: 29.-30.09.2007
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:28
Offizielle URL: http://www.stw.nl/NR/rdonlyres/ADD2FB2C-3AD4-4D1E-BA0A-1EAEA...
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