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Hard Silicon carbonitride films obtained by RF-plasma-enhanced chemical yapour deposition using the single-source precursor bis(trimethylsilyl)carbodiimide

Zhou, Y. ; Probst, D. ; Thissen, A. ; Kroke, E. ; Riedel, R. ; Hauser, R. ; Hoche, H. ; Bfroszeit, E. ; Kroll, P. ; Stafast, H. (2006)
Hard Silicon carbonitride films obtained by RF-plasma-enhanced chemical yapour deposition using the single-source precursor bis(trimethylsilyl)carbodiimide.
In: Journal of the European Ceramic Society, 26
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2006
Autor(en): Zhou, Y. ; Probst, D. ; Thissen, A. ; Kroke, E. ; Riedel, R. ; Hauser, R. ; Hoche, H. ; Bfroszeit, E. ; Kroll, P. ; Stafast, H.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Hard Silicon carbonitride films obtained by RF-plasma-enhanced chemical yapour deposition using the single-source precursor bis(trimethylsilyl)carbodiimide
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2006
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of the European Ceramic Society
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 26
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 16 Fachbereich Maschinenbau
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:26
Letzte Änderung: 20 Feb 2020 13:24
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