Stelzner, Thomas ; Arold, M. ; Falk, F. ; Stafast, Herbert ; Probst, Daniel ; Hoche, Holger
:
Single source precursors for plasma-enhanced CVD of SiCN films, investigated by mass spectrometry.
In:
Surface & coatings technology, 200
pp. 372-376.
[Artikel], (2005)
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2005 |
| Autor(en): | Stelzner, Thomas ; Arold, M. ; Falk, F. ; Stafast, Herbert ; Probst, Daniel ; Hoche, Holger |
| Titel: | Single source precursors for plasma-enhanced CVD of SiCN films, investigated by mass spectrometry |
| Sprache: | Englisch |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Surface & coatings technology |
| Band: | 200 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | Fachbereich Material- und Geowissenschaften |
| Hinterlegungsdatum: | 20 Nov 2008 08:23 |
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