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Single source precursors for plasma-enhanced CVD of SiCN films, investigated by mass spectrometry

Stelzner, Thomas ; Arold, M. ; Falk, F. ; Stafast, Herbert ; Probst, Daniel ; Hoche, Holger :
Single source precursors for plasma-enhanced CVD of SiCN films, investigated by mass spectrometry.
In: Surface & coatings technology, 200 pp. 372-376.
[Artikel], (2005)

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2005
Autor(en): Stelzner, Thomas ; Arold, M. ; Falk, F. ; Stafast, Herbert ; Probst, Daniel ; Hoche, Holger
Titel: Single source precursors for plasma-enhanced CVD of SiCN films, investigated by mass spectrometry
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Surface & coatings technology
Band: 200
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:23
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