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Hard silicon carbonitride films obtained by RF-plasma enhanced chemical vapour deposition using the single source precursor Bis(trimethylsilyl)-carbodiimide

Zhou, Yanping ; Probst, Daniel ; Thissen, Andreas ; Kroke, Edwin ; Riedel, Ralf ; Hauser, Ralf ; Hoche, Holger ; Broszeit, Erhard ; Kroll, Peter ; Stafast, Herbert :
Hard silicon carbonitride films obtained by RF-plasma enhanced chemical vapour deposition using the single source precursor Bis(trimethylsilyl)-carbodiimide.
In: Journal of the European Ceramic Society, 26 pp. 1325-1335.
[Artikel], (2005)

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2005
Autor(en): Zhou, Yanping ; Probst, Daniel ; Thissen, Andreas ; Kroke, Edwin ; Riedel, Ralf ; Hauser, Ralf ; Hoche, Holger ; Broszeit, Erhard ; Kroll, Peter ; Stafast, Herbert
Titel: Hard silicon carbonitride films obtained by RF-plasma enhanced chemical vapour deposition using the single source precursor Bis(trimethylsilyl)-carbodiimide
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of the European Ceramic Society
Band: 26
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:22
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