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Aufbau und Verschleißverhalten von ionenimplantiertem Ti6Al4V

Schminke, Andreas (1998):
Aufbau und Verschleißverhalten von ionenimplantiertem Ti6Al4V.
Darmstadt: 1998. 122 S,
Darmstadt, Technische Univ. Darmstadt, TU Darmstadt, [Ph.D. Thesis]

Item Type: Ph.D. Thesis
Erschienen: 1998
Creators: Schminke, Andreas
Title: Aufbau und Verschleißverhalten von ionenimplantiertem Ti6Al4V
Language: German
Place of Publication: Darmstadt
Publisher: Technische Univ. Darmstadt
Edition: Darmstadt: 1998. 122 S
Collation: 122 S.
Divisions: 11 Department of Materials and Earth Sciences
11 Department of Materials and Earth Sciences > Material Science
11 Department of Materials and Earth Sciences > Material Science > Physical Metallurgy
Date Deposited: 19 Nov 2008 15:56
License: [undefiniert]
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