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Aufbau und Verschleißverhalten von ionenimplantiertem Ti6Al4V

Schminke, Andreas :
Aufbau und Verschleißverhalten von ionenimplantiertem Ti6Al4V.
Technische Univ. Darmstadt , Darmstadt
[Dissertation]

Typ des Eintrags: Dissertation
Erschienen: 1998
Autor(en): Schminke, Andreas
Titel: Aufbau und Verschleißverhalten von ionenimplantiertem Ti6Al4V
Sprache: Deutsch
Ort: Darmstadt
Verlag: Technische Univ. Darmstadt
Edition: Darmstadt: 1998. 122 S
Kollation: 122 S.
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Physikalische Metallkunde
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 15:56
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