Schwalke, Udo ; Pölzl, Martin ; Sekinger, Thomas ; Kerber, Martin (2001)
Ultra-Thick Gate Oxides: Charge Generation and Its Iimpact on Reliability.
In: Microelectronics Reliability, 41 (7)
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2001 |
| Autor(en): | Schwalke, Udo ; Pölzl, Martin ; Sekinger, Thomas ; Kerber, Martin |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Ultra-Thick Gate Oxides: Charge Generation and Its Iimpact on Reliability |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 2001 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Microelectronics Reliability |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 41 |
| (Heft-)Nummer: | 7 |
| URL / URN: | http://dx.doi.org/10.1016/S0026-2714(01)00058-0 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 19 Nov 2008 16:28 |
| Letzte Änderung: | 20 Feb 2020 13:27 |
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