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{B[C2H4Si(CH3)NH]2[C2H4Si(CH3)N(SiH2Ph)]}n: The first polyborosilazane precursor for silicoboron carbonitride stable to 2200°C

Wang, Z.-C. ; Gerstel, P. ; Kaiser, G. ; Hummer, H. ; Kummer, H. ; Bill, J. ; Aldinger, F. ; Riedel, R. :
{B[C2H4Si(CH3)NH]2[C2H4Si(CH3)N(SiH2Ph)]}n: The first polyborosilazane precursor for silicoboron carbonitride stable to 2200°C.
In: Chemistry letters pp. 296-297.
[Artikel], (2001)

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2001
Autor(en): Wang, Z.-C. ; Gerstel, P. ; Kaiser, G. ; Hummer, H. ; Kummer, H. ; Bill, J. ; Aldinger, F. ; Riedel, R.
Titel: {B[C2H4Si(CH3)NH]2[C2H4Si(CH3)N(SiH2Ph)]}n: The first polyborosilazane precursor for silicoboron carbonitride stable to 2200°C
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Chemistry letters
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 16:27
Zusätzliche Informationen:

Zeichendarst. im Sachtitel teilw. nicht vorlagegemäß wiedergegeben

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