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Chemical passivation of Si (111) capped by a thin GaSe layer

Rudolph, R. ; Pettenkofer, C. ; Klein, Andreas ; Jaegermann, W. :
Chemical passivation of Si (111) capped by a thin GaSe layer.
In: Applied Surface Science, 167 (1-2) pp. 122-124. ISSN 01694332
[Artikel], (2000)

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2000
Autor(en): Rudolph, R. ; Pettenkofer, C. ; Klein, Andreas ; Jaegermann, W.
Titel: Chemical passivation of Si (111) capped by a thin GaSe layer
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Applied Surface Science
Band: 167
(Heft-)Nummer: 1-2
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 16:24
ID-Nummer: doi:10.1016/S0169-4332(00)00515-8
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