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Hetero-epitaxial growth of CoSi2 thin films on Si(100): template effects and epitaxial orientations

Buschmann, Véronique ; Rodewald, M. ; Fuess, H. ; van Tendeloo, G. ; Schäffer, C. :
Hetero-epitaxial growth of CoSi2 thin films on Si(100): template effects and epitaxial orientations.
In: Journal of crystal growth. 191 (1998), S. 430-438
[Artikel], (1998)

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1998
Autor(en): Buschmann, Véronique ; Rodewald, M. ; Fuess, H. ; van Tendeloo, G. ; Schäffer, C.
Titel: Hetero-epitaxial growth of CoSi2 thin films on Si(100): template effects and epitaxial orientations
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of crystal growth. 191 (1998), S. 430-438
Fachbereich(e)/-gebiet(e): FB Materialwissenschaft (aufgegangen in FB11)
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 16:23
Zusätzliche Informationen:

Zeichendarst. im Sachtitel teilw. nicht vorlagegemäß wiedergegeben

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