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In Situ Hall Effect Monitoring of Vacuum Annealing of In₂O₃:H Thin Films

Wardenga, Hans ; Frischbier, Mareike ; Morales-Masis, Monica ; Klein, Andreas (2021)
In Situ Hall Effect Monitoring of Vacuum Annealing of In₂O₃:H Thin Films.
In: Materials, 8 (2)
doi: 10.26083/tuprints-00019791
Artikel, Zweitveröffentlichung, Verlagsversion

Kurzbeschreibung (Abstract)

Hydrogen doped In2O₃ thin films were prepared by room temperature sputter deposition with the addition of H₂O to the sputter gas. By subsequent vacuum annealing, the films obtain high mobility up to 90 cm²/Vs. The films were analyzed in situ by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and ex situ by X-ray diffraction (XRD), optical transmission and Hall effect measurements. Furthermore, we present results from in situ Hall effect measurements during vacuum annealing of In₂O₃:H films, revealing distinct dependence of carrier concentration and mobility with time at different annealing temperatures. We suggest hydrogen passivation of grain boundaries as the main reason for the high mobility obtained with In₂O₃:H films.

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2021
Autor(en): Wardenga, Hans ; Frischbier, Mareike ; Morales-Masis, Monica ; Klein, Andreas
Art des Eintrags: Zweitveröffentlichung
Titel: In Situ Hall Effect Monitoring of Vacuum Annealing of In₂O₃:H Thin Films
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2021
Verlag: MDPI
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Materials
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 8
(Heft-)Nummer: 2
DOI: 10.26083/tuprints-00019791
URL / URN: https://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/19791
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Herkunft: Zweitveröffentlichungsservice
Kurzbeschreibung (Abstract):

Hydrogen doped In2O₃ thin films were prepared by room temperature sputter deposition with the addition of H₂O to the sputter gas. By subsequent vacuum annealing, the films obtain high mobility up to 90 cm²/Vs. The films were analyzed in situ by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and ex situ by X-ray diffraction (XRD), optical transmission and Hall effect measurements. Furthermore, we present results from in situ Hall effect measurements during vacuum annealing of In₂O₃:H films, revealing distinct dependence of carrier concentration and mobility with time at different annealing temperatures. We suggest hydrogen passivation of grain boundaries as the main reason for the high mobility obtained with In₂O₃:H films.

Status: Verlagsversion
URN: urn:nbn:de:tuda-tuprints-197917
Sachgruppe der Dewey Dezimalklassifikatin (DDC): 600 Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften > 600 Technik
600 Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften > 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio)
DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) > Sonderforschungsbereiche
DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) > Sonderforschungsbereiche > SFB 595: Elektrische Ermüdung
DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) > Sonderforschungsbereiche > SFB 595: Elektrische Ermüdung > D - Bauteileigenschaften
DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) > Sonderforschungsbereiche > SFB 595: Elektrische Ermüdung > D - Bauteileigenschaften > Teilprojekt D3: Funktion und Ermüdung oxidischer Elektroden in organischen Leuchtdioden
Hinterlegungsdatum: 29 Okt 2021 12:18
Letzte Änderung: 01 Nov 2021 07:19
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