Sharma, Akhil ; Verheijen, Marcel A. ; Wu, Longfei ; Karwal, Saurabh ; Vandalon, Vincent ; Knoops, Harm C. M. ; Sundaram, Ravi S. ; Hofmann, Jan P. ; Kessels, W. M. M. (Erwin) ; Bol, Ageeth A. (2018)
Low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of 2-D MoS2: large area, thickness control and tuneable morphology.
In: Nanoscale, 10 (18)
doi: 10.1039/C8NR02339E
Artikel, Bibliographie
URL / URN: https://doi.org/10.1039/C8NR02339E
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2018 |
| Autor(en): | Sharma, Akhil ; Verheijen, Marcel A. ; Wu, Longfei ; Karwal, Saurabh ; Vandalon, Vincent ; Knoops, Harm C. M. ; Sundaram, Ravi S. ; Hofmann, Jan P. ; Kessels, W. M. M. (Erwin) ; Bol, Ageeth A. |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition of 2-D MoS2: large area, thickness control and tuneable morphology |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 18 April 2018 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Nanoscale |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 10 |
| (Heft-)Nummer: | 18 |
| DOI: | 10.1039/C8NR02339E |
| URL / URN: | https://doi.org/10.1039/C8NR02339E |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung |
| Hinterlegungsdatum: | 07 Jul 2020 05:25 |
| Letzte Änderung: | 07 Jul 2020 05:25 |
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